基于反射谱的薄膜测厚仪，适用于介质、半导体、薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。它是基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d、折射率n (λ) 和消光系数k (λ) 等数据。基于晶圆在线式薄膜量测需求，匠岭自主开发了用于8寸/12寸晶圆制造的TFT系列薄膜量测系统。此系统兼顾量测精度、可靠性和经济适用性，现已开放客户样片测试服务。

光源支持更宽的光谱范围的离线式薄膜膜厚量测系统，波长可以扩展到1600nm以满足特殊需要，支持用于OCD量测的数据获取并支持通过图像识别来定位晶圆，包括Face-Up或Face-Down两种类型，支持多种光斑尺寸以满足不同的应用需要，支持4~12寸晶圆和其他不规则或破损样片

集成可扩展宽波长量测系统、微环境管理系统、图像识别系统、高精度运动平台、可定制型EFEM与FA以及半导体认证标准的全新软件系统，具有全新量测技术的整机，能够达到更高量测精度和更高WPH，以满足客户最新和潜在的量测需求；